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射频放电离子镀装置



射频放电离子镀装置如图1所示。这种离子镀的蒸发源采用电限加热或电子束加热。蒸发源与基体间距为20cm,在两者中间设置高频感应线圈.感应线圈一般为7匝,用直径3mm的铜丝绕成.高7cm。射频频率为13.56MHz,射频功率一般为0.5 -2kW.基体接0-2000V的负偏压,放电的工作压力约为10-3-10-1Pa.只有直流二极型的1%.

射频放电离子镀装置

图1:射频放电离子镀装置

镀膜室内分成三个区域:①以蒸发源为中心的蒸发区;②以感应线圈为中心的离化区;③以基体为中心的离子加速区和离子到达区。通过分别调节热发源功率,感应线圈的射频激励功率,基体偏压等,可以对三个区域进行独立的控制,从而有效地控制沉积过程.改善了镀层的物性。
射频离子镀除了可以制备高质量的金属薄膜外.还能镀制化合物薄膜和合金薄膜。镀化合物薄膜采用活性反应法。在反应离子镀合成化合物薄膜和用多蒸发源配制合金膜时.精确调节蒸发源功率.控制物料的蒸发速率是十分重要的。

在感应线圈射频激励区中.电子在高频电场作用下做振荡运动.延长了电子到达阳极的路径.增加了电子与反应气体及金属蒸气碰掩的概率.这样可提高放电电流密度。正是由于高频电场的作用,使着火气体压强降低到10-3~10-1Pa,即叮在高真空中进行高频放电.因而以电子束加热蒸发源的射频离子镀.不必设置差压板。

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